济宁镀钛加工服务电话服务至上「多图」

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PVD是英文Physical VaporDeition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。

在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：

装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。

其中热阴极电子枪蒸发离子镀，利用铜坩埚加热融化被镀金属材料，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子枪增强离化率，不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂层，而且其结合力、耐磨性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去。3、材料本身：产地、厚度、规格、内部构成化学元素、表面初始加工的相似度。但是这些设备都只适合于 TiN涂层，或纯金属薄膜。对于多元涂层或复合涂层，则力不从心，难以适应高硬度材料高速切削以及模具应用多样性的要求。